Przyczyny niepowodzenia Ruthenium Iridium Titanium Anode Passivation
Anoda ruten-irynia-tytanowa ma pewne życie zawodowe podczas pracy elektrolizy. Gdy napięcie wzrasta bardzo wysoko i w rzeczywistości nie ma prądu przechodzącego przez, anoda rutenu-irynia-tytanu traci swoją funkcję. Zjawisko to nazywa się pasywacją anod.
Ruthenium iridium titanium anode passivation ma następujące powody.
1) Powłoka odkleja się
Tytanowy anoda tytanowa iridium składa się z tytanowego podłoża i aktywną powłoką z tytanu i iryanu. Reakcja elektrochemiczna jest tylko aktywną powłoką rutenową irydową. Jeśli powłoka i podłoże nie są mocno połączone, spadną z tytanowego podłoża i spadną do pewnego stopnia. Do pewnego stopnia tytanowy anoda tytanowa iridium titanium traci swój efekt. (Podzielony na zgnieciony peeling, peeling warstwy w kształcie brzucha i pęknięty peeling)
2) W powłoce występują pęknięcia
Podczas elektrolizy na anodie ruten-iryd-tytan generowany jest nowy ekologiczny tlen, z których część wydzielina na styku między aktywną powłoką a elektrolitem, a następnie pozostawia powierzchnię anody w celu wytworzenia tlenu do roztworu; z powodu pęknięć w aktywnej powłoce, druga część tlenu jest adsorbowana na anodzie Na powierzchni, poprzez aktywną powłokę poprzez dyfuzję lub migrację, dociera do interfejsu między powłoką a podłożem tytanu, a następnie tlen jest chemicznie adsorbowany na powierzchni podłoża tytanu, tworząc folię z tlenkiem nieprzewodzącym (TiO2) z tytanu , co powoduje rezystancję wsteczna; Lub elektrolit przenika przez pęknięcia powłoki, podłoże tytanowe jest powoli utleniane, a interfejs z powłoką aktywną rutenu-irynia-tytanu jest skorodowany, powodując odpadnięcie aktywnej powłoki ruten-irynia-tytanu, co powoduje wzrost potencjału anody ruten-iryd-tytanu. Wzrost potencjału dodatkowo sprzyja rozpuszczaniu powłoki i utlenianiu podłoża tytanowego.
3) RuO2 rozpuszcza
Zmniejszyć wytwarzanie tlenu, co może spowolnić powstawanie filmu tlenkowego. Gdy całkowita gęstość prądu elektrolizy wzrasta, wzrost szybkości wytwarzania chloru jest znacznie większy niż wzrost szybkości wytwarzania tlenu, więc wzrost gęstości prądu sprzyja zmniejszeniu zawartości tlenu w chlorze. Podłoże tytanowe jest wstępnie utlenione w celu utworzenia warstwy tlenku, która może zwiększyć siłę wiązania aktywnej powłoki rutenu, irydu, tytanu i podłoża tytanowego, sprawić, że powłoka jest twarda i zapobiec wypadnięciu rutenu i rozpuszczeniu, ale spowoduje również ruten, iryd, wzrost tytanu w kropli ommu anodowego.
4) Nasycenie tlenków
Aktywna powłoka składa się z niestechiometrycznych RuO2- i TiO2, który jest tlenkiem z niedoborem tlenu. Tlenek nieskomimetryczny jest prawdziwym aktywnym środkiem wyładowania chloru. Im więcej takich tlenków, tym bardziej aktywne ośrodki i lepsza aktywność anody ruten-irynia-tytanu. Przewodność anod pokrytych rutenem-irydem-tytanem polega na wykonywaniu zniekształconych mieszanech kryształów typu n wytwarzanych z izomorficznych RuO2 i TiO2 po obróbce cieplnej. Istnieje kilka wakatów tlenu. Gdy te wakaty tlenu są wypełnione tlenem, potencjał wzrasta szybko, powodując pasywację.